ПОЛИПЛАН ® Рапид II
Цементно-полиуретановое покрытие пола ПОЛИПЛАН® Рапид II:
- Грунтовочный слой
Праймер 205 - Основной слой
ПОЛИПЛАН® 109
Состав системы
Состав системы покрытия ПОЛИПЛАН® Рапид II
Для оснований с остаточной влажностью бетона ≤6% (масс.)
| Материал |
Средний расход (кг/м2) |
Средняя толщина (мм) |
Способ нанесения | |
|---|---|---|---|---|
| Грунтовочный слой | Праймер 205 | 0,30 | 0,10 | коротковорсовый валик / плоская кельма / резиновый скребок |
| Основной слой | ПОЛИПЛАН® 109 |
|
|
ракля с регулируемым зазором / плоская кельма / игольчатый валик |
Состав системы покрытия ПОЛИПЛАН® Рапид II
Для оснований с остаточной влажностью бетона ≤10% (масс.), требующих локального выравнивания поверхности.
| Материал |
Средний расход (кг/м2) |
Средняя толщина (мм) |
Способ нанесения | |
|---|---|---|---|---|
|
Выравнивающий (проявочный) |